一、行業簡介
        半（bàn）導（dǎo）體、集（jí）成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件（jiàn）、微電子工（gōng）業、大規模、超大規模集成電路需用大量的純水、高純水（shuǐ）、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質（zhì）的要求也越高。目前我國電（diàn）子（zǐ）工業部（bù）把電子級水質技術分為五個行業等級（jí），分別為（wéi）18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質（zhì）。
二、應用範圍
1、電子、電力、電鍍（dù）、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、製藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域（yù）。
2、化工工（gōng）藝用水、化學藥劑、化妝品等用（yòng）純水。
3、單晶矽、半導體晶片切割製造、半導（dǎo）體（tǐ）芯片、半導體封裝 、引線櫃架、集（jí）成（chéng）電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光（guāng）通（tōng）信、電腦元件（jiàn）、電容器潔淨產品（pǐn）及各（gè）種元（yuán）器件等生產（chǎn）工藝用純水。
三、工藝簡介
1、係統模（mó）塊化設計，共分四部分：預處理係統、反滲透係統、EDI係統、終端（duān）供水係統。
2、預處理係統主要用來去除（chú）原水中的懸浮物、濁度、色度、膠體以及部分（fèn）有（yǒu）機物，保證（zhèng）產（chǎn）水符合反滲透係統的進水水質要求。
3、反滲透係統主要用來去除（chú）原水（shuǐ）中溶解性鹽類物（wù）質、細菌、熱源等，保證產水符合EDI係統進水水質（zhì）要求。
4、EDI係統主要用來對反滲透產水進（jìn）行進一步脫除溶解性的小分子鹽類（lèi）物質，產水達到電阻率達到15MΩ.cm以上。
5、終端供水係統主要是用來將合格水輸送至（zhì）用水點，輸送過程中對EDI產生進行最後的離子交換（huàn）脫鹽，使得產（chǎn）水達到電阻率達到（dào）18MΩ.cm以上。
6、整個係統進行集（jí）中控製。

四、技術特色
1、係統模塊化設計（jì），占（zhàn）地麵積小，操作維護方便（biàn），安裝方便快捷，整體美觀。
2、整套係統實（shí）現全自動化運行，並且手動與自（zì）動自由切換。
3、設備產水水質穩定，運行連續穩定。
4、係統工藝先進，無需化學藥品再（zài）生，無危害性廢液排放。
5、係（xì）統節水率高，係（xì）統回收率在75%以上。
6、關鍵部位采用在線儀表監（jiān）測，適時數據上（shàng）傳。
五、設備參數
1、係統回收率（lǜ）：
        超（chāo）濾≥90%
        一級反（fǎn）滲透≥75%
        二級反滲透≥85%
        EDI係統≥90%
2、設備產水符合《電子超純水國家標準》 （GB/T1144.6.1-1997）或美（měi）國半導體工業（yè）純水指標。
3、單支膜脫鹽率≥99.5%（水溫25℃）。